| 发明名称 | 微细加工处理剂以及使用其的微细加工处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供对硅氮化膜和硅氧化膜的层叠膜可选择性地将硅氧化膜进行微细加工的微细加工处理剂，以及使用其的微细加工处理方法。本发明的微细加工处理剂是用于形成有硅氮化膜和硅氧化膜的被处理物的微细加工的微细加工处理剂，其中包含下述(A)成分或(B)成分中的至少任一方、下述(C)成分和下述(D)成分；下述(A)成分或(B)成分中的至少任一方与(C)成分的含量的合计相对于微细加工处理剂的总量为90重量％以下。(A)成分：0.01重量％～20重量％的氟化氢，(B)成分：0.1重量％～20重量％的氟化铵或氟化季铵盐中的至少任一方，(C)成分：1重量％～80重量％的选自盐酸、硝酸、硫酸和磷酸中的至少任一种酸，(D)成分：水。 | ||
| 申请公布号 | CN102473636B | 申请公布日期 | 2015.06.03 |
| 申请号 | CN201080035331.9 | 申请日期 | 2010.08.09 |
| 申请人 | 斯泰拉化工公司 | 发明人 | 宫下雅之;久次米孝信;二井启一;长谷部类;石丸慧 |
| 分类号 | H01L21/308(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/308(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 金世煜;苗堃 |
| 主权项 | 一种微细加工处理剂，是用于形成有硅氮化膜和硅氧化膜的被处理物的微细加工的微细加工处理剂，所述微细加工处理剂，可相对于硅氮化膜选择性地将硅氧化膜进行微细加工，其中，包含下述(A)成分和下述(B)成分和下述(C)成分和下述(D)成分；下述(A)成分和下述(B)成分和下述(C)成分的含量的合计相对于微细加工处理剂的总量为90重量％以下；(A)成分：0.01重量％～20重量％的氟化氢，(B)成分：0.1重量％～20重量％的氟化铵或氟化季铵盐中的至少任一方，(C)成分：1重量％～80重量％的选自盐酸、硝酸、硫酸和磷酸中的至少任一种酸，(D)成分：水。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||