| 摘要 |
<p>화학식 (I)을 갖는 화합물:상기 식에서, R은 각각 독립적으로 H 또는 인접 R에 임의로 결합된, 치환되거나 미치환된 C지방족 그룹이고, R및 R는 각각 독립적으로 H, F, C알킬, C플루오로알킬, C사이클로알킬 또는 C플루오로사이클로알킬이며(여기에서 적어도 하나의 R및/또는 R는 F를 함유한다), L, L및 L는 각각 독립적으로 단일 결합, 또는 임의로 락톤 그룹을 포함하는 C결합 그룹이며(여기에서하나 이상의 L, L및 L는 임의로 고리 구조를 형성하고, 하나 이상의 L, L및 L는 폴리머화 C알파-베타 불포화 유기그룹으로 임의로 치환된다), X는 에테르, 에스테르, 카보네이트, 아민, 아미드, 우레아, 설페이트, 설포네이트, 또는 설폰아미드 함유 그룹이고, Z는 유기 또는 무기 양이온이고, a는 각각 독립적으로 0 내지 12의 정수이고, b는 0 내지 5의 정수이며, c, d, 및 r은 각각 독립적으로 0 또는 1이며, p는 0 내지 10의 정수이고, q는 1 내지 10의 정수이다. 포토레지스트는 포토애시드 발생제를 포함하고 코팅된 물품은 포토레지스트를 포함한다. 포토레지스트를 사용하여 장비를 형성할 수 있다.</p> |
