发明名称 method of forming pattern structure
摘要 <p>본 발명은 패턴 구조체 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 패턴 구조체 형성 방법은 기판 상에 함몰부를 갖는 박막 패턴을 형성하는 것, 박막 패턴에 박막 패턴의 하부를 노출시키는 보호막을 형성하는 것, 그리고 노출된 박막 패턴의 하부를 선택적으로 액처리하는 것을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101524824(B1) 申请公布日期 2015.06.03
申请号 KR20090005193 申请日期 2009.01.21
申请人 发明人
分类号 H01L21/28;H01L21/31 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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