发明名称 ELECTROSTATIC CHUCK AND VACUUM PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>정전 척에 투광성을 가지는 처리 기판을 지지시켜서, 처리 기판에 대해 광의 조사를 수반하는 처리를 수행할 때에, 광전 효과로 흡착력이 저하하여도 처리 기판을 확실하게 지지할 수 있도록 한 정전 척을 제공한다. 정전 척(6)은 유전체로 이루어진 척 플레이트(61)와, 척 플레이트(6) 사이에 전압을 인가하여, 처리 기판(S)을 척 플레이트(61)의 표면에 흡착한다. 척 플레이트(61)의 표면 일부에, 처리 기판(S)에 대한 점착력을 가지는 점착 시트 등으로 이루어진 기판 지지부(64)가 설치된다.</p>
申请公布号 KR101524857(B1) 申请公布日期 2015.06.01
申请号 KR20117006903 申请日期 2009.08.17
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;H01L21/683;H01L21/687;H02N13/00 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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