| 发明名称 | 托盘装置、反应腔室和金属有机化合物化学气相沉积（ＭＯＣＶＤ）设备 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI486480 | 申请公布日期 | 2015.06.01 |
| 申请号 | TW102141434 | 申请日期 | 2013.11.14 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 涂冶 |
| 分类号 | C23C16/458 | 主分类号 | C23C16/458 |
| 代理机构 | 代理人 | 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 | |
| 主权项 | 一种托盘装置，其包括大托盘、旋转轴、小托盘以及支撑盘；其中旋转轴与大托盘的中心相连接并带动大托盘以旋转轴为中心进行旋转；大托盘上设置有用于放置小托盘的托盘槽；支撑盘位于大托盘的下方，且支撑盘和小托盘之间设置有滑动机构，使得小托盘在随着大托盘进行公转的同时，可在滑动机构的作用下进行自转。 | ||
| 地址 | 中国 | ||