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<p>유전체 층을 형성하는 방법이 설명된다. 방법은, 국부 플라즈마를 사용하는 화학 기상 증착에 의해서, 실리콘-함유 필름을 증착한다. 실리콘-함유 필름은 낮은 기판 온도에서의 증착 동안에 유동 가능하다. 실리콘 전구체(예를 들어, 실릴아민, 더 고차의 실란 또는 할로겐화 실란)가 기판 프로세싱 영역으로 전달되고 국부 플라즈마에서 여기된다. 제 2 플라즈마 증기 또는 가스는 기판 프로세싱 영역에서 실리콘 전구체와 결합되고, 암모니아, 질소(N), 아르곤, 수소(H) 및/또는 산소(O)를 포함할 수 있다. 이러한 증기/가스 결합들과 조합된, 본원에서 개시된 장비 구성들은, 상대적으로 낮은 전력을 사용하여 국부 플라즈마가 여기될 때 약 200℃ 또는 그 미만의 기판 온도들에서 유동 가능한 증착을 초래하는 것으로 발견되었다.</p> |
