曝光系统与曝光制程;LIGHT EXPOSURE SYSTEM AND LIGHT EXPOSURE PROCESSES

摘要

本发明揭露一种曝光系统与曝光制程。曝光系统系对一组立液晶面板进行曝光制程。组立液晶面板具有一应连续曝光时间。曝光系统包括一光源装置、一快门装置以及一控制装置。光源装置可发射一光线照射于组立液晶面板。快门装置位于光线之光路径上。控制装置控制光源装置或快门装置，进而控制照射于组立液晶面板之光源照度，控制装置令组立液晶面板于曝光制程中具有复数接受第一光源照度的第一曝光时间与复数接受第二光源照度的第二曝光时间，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间系交错排置，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间的加总实质等于应连续曝光时间。