Struktur mit Mehrlinien-Breite, die mittels Photolithographie erzeugt wird

摘要

Die Erfindung betrifft eine Verfahren, das Folgendes umfasst: Ausbilden einer Polymerschicht auf einem Substrat; Strukturieren der Polymerschicht so, dass ein erstes Merkmal und ein zweites Merkmal ausgebildet werden, wobei das erste Merkmal und das zweite Merkmal durch eine erste Strecke getrennt sind; Anwenden eines Spülmaterials auf die Polymerschicht, die das erste Merkmal und das zweite Merkmal aufweist; Entfernen des Spülmaterials von der Polymerschicht, die das erste Merkmal und das zweite Merkmal aufweist, um zu erreichen, dass das erste Merkmal und das zweite Merkmal zu einander in Kontakt treten; und Ausbilden eines dritten Merkmals, gestützt darauf, dass das erste Merkmal und das zweite Merkmal in Kontakt zu einander stehen. Die Erfindung betrifft auch ein entsprechendes Bauteil.