| 发明名称 | 光学邻近修正模型的获取方法 | ||
| 摘要 | 一种光学邻近修正模型的获取方法，包括：获取用户目标图形，对所述用户目标图形进行光学邻近修正，获得修正后掩膜版图形；得到修正后掩膜版图形的光强信息；若光学邻近修正模型数据库内不存在与修正后掩膜版图形的光强信息相一致的已有掩膜版图形的光强信息，则将上述修正后掩膜版图形的光强信息、修正后掩膜版图形及其周围相干半径记录入光学邻近修正模型数据库。如此，采用光强信息比较方式，增加了光学邻近修正模型数据库中的掩膜版图形，对于客户新的电路设计图形，数据库可以实现完全覆盖。 | ||
| 申请公布号 | CN104570586A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201310505289.8 | 申请日期 | 2013.10.23 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 王辉 |
| 分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种光学邻近修正模型的获取方法，其特征在于，包括：获取用户目标图形，对所述用户目标图形进行光学邻近修正，获得修正后掩膜版图形；得到修正后掩膜版图形的光强信息；若光学邻近修正模型数据库内不存在与修正后掩膜版图形的光强信息相一致的已有掩膜版图形的光强信息，则将上述修正后掩膜版图形的光强信息、修正后掩膜版图形及其周围相干半径记录入所述光学邻近修正模型数据库。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道18号 | ||