发明名称 | 一种IO Pad的ESD静电防护结构 | ||
摘要 | 本发明提供一种IO Pad的ESD静电防护结构,包括衬底、两个P型晶体管、四个N型晶体管、隔离电阻、两个PAD通道以及N型阱区。本发明采用非ESD Device器件构成防护器件;采用手指状结构并联MOS管单元构成MOS管并联组,多MOS管并联组并行布局,构成大尺寸静电防护MOS器件;版图布局采用双Pad通道,与ESD防护N型MOS器件区域、P型MOS器件相间隔分布。本发明的IO Pad的ESD静电防护结构,与工艺厂商提供IO Pad的静电防护结构相比,能减少工艺流程,兼容其他工艺设计,达到等同静电防护性能同时,静电防护器件面积更小,成本更低,且便于为提升防静电能力对静电防护器件进行改进。 | ||
申请公布号 | CN104576640A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
申请号 | CN201410815637.6 | 申请日期 | 2014.12.23 |
申请人 | 北京时代民芯科技有限公司;北京微电子技术研究所 | 发明人 | 宗宇;査启超;赵元富;姚全斌;冯奕翔;宋晶峰 |
分类号 | H01L27/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人 | 庄恒玲 |
主权项 | 一种IO Pad的ESD静电防护结构,其特征在于,包括衬底(10)、阱区(11)、两个P型晶体管(1,2)、第一N型晶体管(3)、第二N型晶体管(4)、第三N型晶体管(5)、第四N型晶体管(7)、隔离电阻(6)、第一PAD通道(8)以及第二PAD通道(9),其中,所述第一PAD通道(8)与第二PAD通道(9)彼此间隔、且彼此平行地布置在所述衬底(10)上;所述阱区(11)布置在所述第一PAD通道(8)和第二PAD通道(9)限定的区域之外;并且两个P型晶体管(1,2)沿着所述第一PAD通道(8)延伸的方向并列地布置在所述阱区(11)上;所述第一N型晶体管(3)和第四N型晶体管(7)沿着两个PAD通道延伸的方向并列地布置在两个PAD通道限定的区域内,并靠近于所述第一PAD通道(8);所述第二N型晶体管(4)、第三N型晶体管(5)、以及隔离电阻(6)沿着两个PAD通道延伸的方向并列地布置在两个PAD通道限定的区域内,并靠近于所述第二PAD通道(9),并且所述第一N型晶体管(3)与第二N型晶体管(4)和第三N型晶体管(5)之间通过所述第一N型晶体管(3)的栅端金属信号线间隔。 | ||
地址 | 100076 北京市丰台区东高地四营门北路2号 |