一种高红外反射的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品

摘要

本发明涉及玻璃镀膜领域，特别是涉及高可见光透过率、高红外反射和可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品。膜层结构包括自玻璃基板向上交替叠加的介质层和红外反射层，交替叠加的顺序为先介质层后红外反射层，其特征在于：位于最上层的上介质层包括：第二介质膜，选自ZrO₂和ZrOxNy中的至少一种；沉积在第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y的氧化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr的氮化物、氮氧化物中的至少一种。优点在于：该镀膜玻璃及其夹层玻璃制品可见光透过率高，机械稳定性和高温热处理稳定性好。

主权项

一种高红外反射的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板和自所述玻璃基板表面向上交替叠加的至少三个介质层和至少两个红外反射层，交替叠加的顺序为先介质层后红外反射层，交替叠加的膜层的最上层为介质层，其特征在于：位于最上层的上介质层包括：1)第一介质膜，所述第一介质膜包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc元素中的至少一种；2)沉积在所述第一介质膜上的第二介质膜，所述第二介质膜为ZrO₂；3)沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜为TiO₂膜或SiO₂膜；当所述第三介质膜为TiO₂膜时，所述第二介质膜的几何厚度为12～24nm，所述第三介质膜的几何厚度为6～14nm；当所述第三介质膜为SiO₂膜时，所述第二介质膜的几何厚度为5～40nm，所述第三介质膜的几何厚度为50～100nm。