发明名称 利用光栅实现物体成像的装置
摘要 一种利用光栅实现物体成像的装置,其构成包括光源、二维光栅、固定待测样品的载物台和衍射斑记录器,所述的光源发出的光依次经过二维光栅、待测样品和衍射斑记录器,所述的光源、二维光栅、待测样品和衍射斑记录器的位置关系应满足:所述的衍射斑记录器能同时记录N×N个子衍射光斑,其中N>=3,且相邻子光斑中心之间距大于每个子光斑的直径。本发明利用光栅结合现有的PIE算法实现成像的装置,能够实现成像质量不依赖平移台精度,只需要单次曝光就能够通过PIE算法进行成像。
申请公布号 CN103246077B 申请公布日期 2015.04.15
申请号 CN201310172716.5 申请日期 2013.05.10
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 潘兴臣;刘诚;朱健强
分类号 G02B27/44(2006.01)I;G02B27/48(2006.01)I;G01J9/00(2006.01)I 主分类号 G02B27/44(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 张泽纯
主权项 一种利用光栅实现物体成像的装置,特征在于其构成包括光源(1)、二维光栅(2)、固定待测样品(3)的载物台(4)和衍射斑记录器(5),所述的光源(1)发出的光依次经过二维光栅(2)、待测样品(3)和衍射斑记录器(5),调整光源(1)、二维光栅(2)、待测样品(3)和衍射斑记录器(5)的位置,使所述的衍射斑记录器(5)同时记录N×N个子衍射斑,其中N>=3,且相邻子光斑之间距大于每个光斑的直径;所述的二维光栅(2)为反射式光栅时,调整二维光栅(2)和载物台(4)的位置,使光源(1)发出的光通过二维光栅(2)反射的多个子照明光照射在待测样品(3)需要成像的区域,并且各个子照明光到达待测样品(3)时的分布满足PIE算法中扫描光分布的关系,即相邻两个子照明光中心之间有部分重叠;所述的二维光栅(2)为透射式光栅时,调整二维光栅(2)和载物台(4)的位置,使光源(1)发出的光通过二维光栅(2)透射的多个子照明光照射在待测样品(3)需要成像的区域,并且各个子照明光到达待测样品(3)时的分布满足PIE算法中扫描光分布的关系,即相邻两个子照明光中心之间有部分重叠。
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