一种磁控溅射制备超硬薄膜的方法

摘要

本发明涉及一种磁控溅射制备超硬薄膜的方法，解决了硬度、耐磨等问题。用磁控溅射技术，直流电源激发等离子体溅射金属靶；真空室抽至4.0×10^-3Pa，加热至250℃；基材在-600V偏压下用氩离子溅射清洗样品5-10min；预溅射金属靶10～20min，开启电源，逐渐增加电压直至起辉，将功率调至1KW或1.5KW；基底偏压为-200V沉积，靶功率保持1KW或1.5KW；通入氮气流量0.5～0.8ml/s，氨气为0.1～0.52ml/s，总的工作气压保持在0.26Pa，用本发明合成硬度高、耐磨性好、附着力强、应力适当、可成为应用于刀具、模具表面强化薄膜的纳米多层膜。

主权项

一种磁控溅射技术制备超硬薄膜的方法，其特征是在合成薄膜中加入了一个关键技术：在反应气体中加入不同流量的氨气，利用磁控溅射技术，采用直流电源激发等离子体来溅射金属靶，通入反应气体氩气、氮气和氨气进行反应溅射合成；具体步骤如下： 1)将金属靶材安装于各自的靶台上； 2)将基片超声清洗、烘干，安装在基片转台上； 3)真空室抽至4.0×10^‑3Pa，加热至250℃； 4)基材在‑600V偏压下用氩离子溅射清洗样品5‑10min； 5)预溅射金属靶10‑20min，开启电源，逐渐增加电压直至起辉，将功率调至1KW或1.5KW； 6)在整个沉积过程中，金属靶功率保持1KW或1.5KW；通入氮气流量0.5‑0.8ml/s，氨气为0.1‑0.52ml/s，总的工作气压保持在0.26Pa。