一种给抛光机台集中供药的装置

摘要

本实用新型公开了一种给抛光机台集中供药的装置，包括第一搅拌桶、第二搅拌桶、储液罐、纯水输送管道、排气管道、排水管道、回流管道以及多台抛光设备机台。采用PLC控制器全自动控制，保证配药比例精度及输送药液流量的精度。后段的回流工艺，可以有效保证装置的稳定性，使机台正常均匀运行。设有排水管道，保证污水处理的安全性，保护环境。与现有技术相比，该装置可以连续性运作，提高配药量，实现批量配药、连续配药，极大地缩短了配药时间，有利于企业晶片的产业化生产。并且本装置结构简单，可以有效节约设备空间，可同时配置多套供药系统，向抛光设备机台供应不同药液，利于抛光过程中使用不同的药液进行抛光。

主权项

一种给抛光机台集中供药的装置，其特征在于，包括第一搅拌桶、第二搅拌桶、储液罐、纯水输送管道、排气管道、排水管道、回流管道以及多台抛光设备机台；其中所述第一搅拌桶、所述第二搅拌桶和所述储液罐的上端均与所述纯水输送管道和所述排气管道连接，所述第一搅拌桶、所述第二搅拌桶和所述储液罐的底部均与所述排水管道连通，所述第一搅拌桶和所述第二搅拌桶之间通过第一输送管道连通，所述第二搅拌桶和所述储液罐之间通过第二输送管道连通，所述储液罐和每一所述抛光设备机台之间通过药液输送管道连通，所述药液输送管道上方设有所述回流管道，所述回流管道与所述储液罐连通；所述纯水输送管道上设有第一搅拌桶纯水控制开关、第二搅拌桶纯水控制开关、储液罐纯水控制开关；所述排气管道上设有第一搅拌桶排气控制开关、第二搅拌桶排气控制开关、储液罐排气控制开关；所述排水管道上设有第一搅拌桶排水控制开关、第二搅拌桶排水控制开关、储液罐排水控制开关；所述第一输送管道上设有第一输送控制开关；所述第二输送管道上设有第二输送控制开关；所述药液输送管道上设有药液控制开关；所述回流管道上设有回流开关。