| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Anodenhalterung beim Magnetron-Sputtern in Vakuumbeschichtungsanlagen mit einem Magnetron mit einem Target als Kathode und mindestens einer als Ringelektrode ausgebildeten rohrförmigen Anode mit einer nach außen gerichteten Funktionsseite sowie einer über dem Magnetron und der Anode angeordneten Trägerplatte. Die Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Anodenhalterung bereitzustellen, die die vorangegangenen genannten Anforderungen erfüllt. Die Aufgabe wird dadurch gelöst, dass die Anode von einem Haltebügel mit einem Halteschenkel einseitig umfasst wird, wobei der Haltebügel auf der der Funktionsseite der Anode abgewandten Seite angeordnet ist und der Halteschenkel auf der der Trägerplatte abgewandten Seite der Anode die Anode über isolierende Halteelemente mit der Trägerplatte verbindet.</p> |
