发明名称 薄膜电晶体及其制作方法;THIN FILM TRANSISTOR AND FABRICATING METHOD THEREOF
摘要 一种薄膜电晶体及其制作方法。薄膜电晶体包括氧化物半导体层、闸绝缘层、闸极、氧吸收层、绝缘层以及多个导电电极。氧化物半导体层包括多个低氧区以及位于低氧区之间的通道区。闸绝缘层位于氧化物半导体层与闸极之间,并覆盖通道区而暴露低氧区。氧吸收层位于低氧区上,并具有多个第一开口。第一开口暴露具有第一面积的低氧区。绝缘层覆盖氧吸收层、氧化物半导体层及闸极,并具有多个第二开口。第二开口位于第一开口内以暴露具有第二面积的低氧区。第二面积小于第一面积。导电电极位于第二开口中以接触低氧区。
申请公布号 TW201513368 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW102134085 申请日期 2013.09.23
申请人 友达光电股份有限公司 AU OPTRONICS CORPORATION 发明人 张志榜 CHANG, CHIH PANG
分类号 H01L29/786(2006.01);H01L21/28(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文叶璟宗
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 TW
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