发明名称 |
薄膜电晶体及其制作方法;THIN FILM TRANSISTOR AND FABRICATING METHOD THEREOF |
摘要 |
一种薄膜电晶体及其制作方法。薄膜电晶体包括氧化物半导体层、闸绝缘层、闸极、氧吸收层、绝缘层以及多个导电电极。氧化物半导体层包括多个低氧区以及位于低氧区之间的通道区。闸绝缘层位于氧化物半导体层与闸极之间,并覆盖通道区而暴露低氧区。氧吸收层位于低氧区上,并具有多个第一开口。第一开口暴露具有第一面积的低氧区。绝缘层覆盖氧吸收层、氧化物半导体层及闸极,并具有多个第二开口。第二开口位于第一开口内以暴露具有第二面积的低氧区。第二面积小于第一面积。导电电极位于第二开口中以接触低氧区。 |
申请公布号 |
TW201513368 |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
TW102134085 |
申请日期 |
2013.09.23 |
申请人 |
友达光电股份有限公司 AU OPTRONICS CORPORATION |
发明人 |
张志榜 CHANG, CHIH PANG |
分类号 |
H01L29/786(2006.01);H01L21/28(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文叶璟宗 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 TW |