发明名称 具有垂直通道电晶体的半导体装置及其制作方法;SEMICONDUCTOR APPARATUS HAVING VERTICAL CHANNEL TRANSISTOR AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
摘要 本发明提供一半导体装置及其制造方法。方法包括于一半导体基板依序地沉积一闸极电极材料以及一牺牲绝缘层;图案化闸极电极材料以及牺牲绝缘层以形成一个或多个孔洞来曝露出半导体基板的一表面;在孔洞的内侧壁形成一闸极绝缘层;形成一个或多个柱状图案以分别填入孔洞中,且在柱状图案的顶端凹入;在柱状图案形成一接触单元与一电极单元;移除一图案化牺牲绝缘层,并形成隙壁氮化材料于移除图案化牺牲绝缘层的半导体基板;以及移除在该些柱状图案之间之部份的隙壁氮化材料与部份的一图案化闸极电极材料。
申请公布号 TW201513230 申请公布日期 2015.04.01
申请号 TW103120935 申请日期 2014.06.17
申请人 爱思开海力士有限公司 SK HYNIX INC. 发明人 金玟锡 KIM, MIN SEOK;尹孝燮 YOON, HYO SEOB
分类号 H01L21/336(2006.01);H01L21/28(2006.01) 主分类号 H01L21/336(2006.01)
代理机构 代理人 赖安国王立成
主权项
地址 南韩 KR