发明名称 |
工艺设备的清洗 |
摘要 |
一种清洗被污染的工艺设备的方法,所述工艺设备包括被有机污物污染的工艺容器(10),所述方法包括在至少69bar(g)的压力下将烃流喷射至所述工艺容器内(10)的被污染的表面,从而从所述被污染的表面除去所述有机污物。所述烃流从至少一个位于所述工艺容器(10)内的喷嘴(24)喷出。所述烃流的温度低于所述有机污物的熔点,或者,当所述有机污物为多组分的有机污物时所述烃流的温度低于所述有机污物的主要组分的熔点。从所述工艺容器(10)中移出被除去的污物。 |
申请公布号 |
CN103260777B |
申请公布日期 |
2015.04.01 |
申请号 |
CN201180060388.9 |
申请日期 |
2011.11.24 |
申请人 |
沙索技术有限公司 |
发明人 |
C·麦格雷戈;U·雷姆哈尼;K·布朗;M·J·小佐格;K·A·博伊特;T·W·甘布里尔 |
分类号 |
B08B9/093(2006.01)I;B08B9/055(2006.01)I;B01J19/00(2006.01)I |
主分类号 |
B08B9/093(2006.01)I |
代理机构 |
北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 |
代理人 |
王昭林;毕长生 |
主权项 |
一种清洗被污染的工艺设备的方法,所述工艺设备包括被有机污物污染的工艺容器,所述方法包括:在至少69bar(g)的压力下将烃流喷射至所述工艺容器内的被污染的表面,从而从所述被污染的表面除去所述有机污物,所述烃流从至少一个位于所述工艺容器内的喷嘴喷出,并且所述烃流的温度低于所述有机污物的熔点,或者,当所述有机污物为多组分的有机污物时所述烃流的温度低于所述有机污物的主要组分的熔点;和从所述工艺容器中移出被除去的污物。 |
地址 |
南非约翰内斯堡 |