发明名称 一种在光刻版图中添加冗余图形的方法
摘要 本发明提供一种在光刻版图中添加冗余图形的方法,方法包括:步骤S1:提供一包含若干设计图形的光刻版图,并将光刻版图分割成至少两个区域;步骤S2:获取每个区域内的设计图形的总面积、总周长和区域面积;步骤S3:计算得到每个区域内的设计图形的总面积与区域面积的比值;步骤S4:不对比值位于[A,1]区间内的所有区域进行冗余图形的填充;对比值小于A的所有区域,按照总周长越小填充越大面积的冗余图形的原则对其进行填充,使任一区域的设计图形和冗余图形的总面积与该区域的区域面积的比值位于区间[A,1]内;其中,A的取值范围为区间(0,1)。本发明的方法能够晶圆的表面密度分布更加均匀,提高化学机械研磨效果。
申请公布号 CN104465650A 申请公布日期 2015.03.25
申请号 CN201410710224.1 申请日期 2014.11.28
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 倪晟;于世瑞;毛智彪;张瑜
分类号 H01L27/02(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 吴俊
主权项 一种在光刻版图中添加冗余图形的方法,其特征在于,所述方法包括:步骤S1:提供一包含若干设计图形的光刻版图,并将所述光刻版图分割成至少两个区域;步骤S2:获取每个所述区域内的设计图形的总面积、总周长和区域面积;步骤S3:计算得到每个所述区域内的设计图形的总面积与所述区域面积的比值;步骤S4:不对比值位于[A,1]区间内的所有区域进行冗余图形的填充;对比值小于A的所有区域,按照总周长越小填充越大面积的冗余图形的原则对其进行填充,使任一区域的所述设计图形和冗余图形的总面积与该区域的区域面积的比值位于区间[A,1]内;其中,A的取值范围为区间(0,1)。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
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