基板处理设备以及涂覆处理溶液的方法

摘要

本发明提供了一种基板处理设备。该设备包括：支撑待处理的基板的基板支撑件；使基板支撑件旋转的旋转驱动件；设置在基板支撑件周围的容器；以及处理溶液供给单元，其包括光致抗蚀剂喷嘴以将光致抗蚀剂供给到基板的上表面，其中当基板支撑件以第一供给速度旋转时光致抗蚀剂喷嘴开始供给光致抗蚀剂，并且当基板支撑件以从第一供给速度减速的第二供给速度旋转时光致抗蚀剂喷嘴停止供给光致抗蚀剂。

主权项

一种基板处理设备，其包括：基板支撑件，其构造为支撑待处理的基板；旋转驱动件，其使所述基板支撑件旋转；容器，其设置在所述基板支撑件周围；以及处理溶液供给单元，其包括光致抗蚀剂喷嘴以将光致抗蚀剂供给到所述基板的上表面，其中，当所述基板支撑件以第一供给速度旋转时，所述光致抗蚀剂喷嘴开始供给所述光致抗蚀剂，并且当所述基板支撑件以从所述第一供给速度减速的第二供给速度旋转时，所述光致抗蚀剂喷嘴停止供给所述光致抗蚀剂。