发明名称 |
无掩膜曝光系统及方法 |
摘要 |
本发明公开了一种无掩膜曝光系统和方法。该系统包括:光学引擎阵列;平移装置,用于驱动光学引擎阵列沿着第一方向平移;扫描平台,用于承载基板并驱动基板沿着第二方向移动,该第二方向与该第一方向垂直;运动控制及数据处理系统,用于控制平移装置和扫描平台的运动,并处理曝光图案数据;该光学引擎阵列包括的光学引擎以(M,N)阵列排布,M和N为自然数,且M与N的乘积大于或等于2;该扫描平台还设置有至少一个第二方向位置传感器,用于检测该扫描平台移动时沿该第二方向的位置信息,以同步该光学引擎阵列包括的各光学引擎。本发明实施例的无掩膜曝光系统和方法,能够实现大面积曝光并对准,从而能够提高生产率和曝光质量。 |
申请公布号 |
CN103048885B |
申请公布日期 |
2015.02.25 |
申请号 |
CN201210363540.7 |
申请日期 |
2012.09.26 |
申请人 |
中山新诺科技股份有限公司 |
发明人 |
梅文辉;杜卫冲;曲鲁杰 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 |
代理人 |
毛威;肖鹂 |
主权项 |
一种无掩膜曝光系统,其特征在于,包括:光学引擎阵列,设置在基板的上方,用于生成曝光图案并将所述曝光图案转换到所述基板上;平移装置,用于驱动所述光学引擎阵列沿着第一方向平移;扫描平台,固定在所述无掩膜曝光系统的基座上,用于承载所述基板并驱动所述基板沿着第二方向移动,所述第二方向与所述第一方向垂直;运动控制及数据处理系统,用于控制所述平移装置和所述扫描平台的运动,并处理曝光图案数据,以便于所述光学引擎阵列生成所述曝光图案;其中,所述光学引擎阵列包括的光学引擎以(M,N)阵列排布,M和N为自然数,且M与N的乘积大于或等于2;所述扫描平台还设置有至少一个第二方向位置传感器,用于检测所述扫描平台移动时沿所述第二方向的位置信息,以同步所述光学引擎阵列包括的各光学引擎;其中,所述无掩膜曝光系统还包括:参考标记平板,用于标识所述光学引擎阵列的运动轨迹,所述运动轨迹包括所述光学引擎阵列中的每个光学引擎的起始标记、停止标记和扫描路线;所述光学引擎阵列的每个光学引擎包括视觉系统,用于根据所述参考标记平板中的运动轨迹校准所述光学引擎与所述基板的相对位置。 |
地址 |
528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一 |