| 摘要 |
<p>【課題】排水管における水撃作用を防止できる廃ガス処理装置を提供する。【解決手段】半導体の製造工程において生成された廃ガスを受け入れ、該廃ガスを水洗する第１のスクラバー２１と、前記廃ガスを水洗する過程で生じた廃水を受け入れて貯めてから排出する水槽２４と、を備えている廃ガス処理装置２であって、水槽２４は、廃水を受け入れて貯めることができる水槽本体２４１と、水槽本体２４１と連通し、水槽本体２４１内に貯められる廃水を排出することができる排水管２４２と、排水管２４２に設置されている緩作動開閉弁２４３と、を有する。【選択図】図１</p> |
