真空沉积设备;VACUUM DEPOSITION APPARATUS

摘要

本发明揭露一种真空沉积设备，包含真空沉积装置、遮罩、真空室以及控制单元。真空沉积装置沉积薄膜层于基板上。遮罩被设置于基板以及真空沉积装置之间，并且薄膜层利用遮罩而选择性地沉积于基板上。真空室环绕真空沉积装置及遮罩。控制单元设置于真空室之外，并且控制单元与真空沉积装置连结且控制遮罩上的张力与压缩力。