发明名称 具有高气体分离系数之气体分离膜及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI472554 申请公布日期 2015.02.11
申请号 TW100115543 申请日期 2011.05.04
申请人 私立中原大学 发明人 叶瑞铭;翁畅健;卓育贤;黄冠烨
分类号 C08G73/10;C08J5/18;B01D53/22 主分类号 C08G73/10
代理机构 代理人 王清煌 台北市信义区基隆路1段420号12楼之4
主权项 一种具有高气体分离系数之气体分离膜,系由至少一具有至少一共轭链段与至少一双胺基化合物的苯胺寡聚体与至少一芳香族之四羧酸二酐在一非质子型极性溶剂之中,经聚合反应、缩合反应与脱水环化反应而成的一聚亚醯胺薄膜;并且,该聚亚醯胺薄膜系经由掺杂一质子酸的方式而进一步地反应成一掺杂的聚亚醯胺薄膜,其中,所述之具有至少一共轭链段与至少一双胺基化合物的苯胺寡聚体之化学结构系由下列化学式1所表示:
地址 桃园市中坜区中北路200号
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