发明名称 一种工件位置校正装置及其校正方法
摘要 一种工件位置校正装置及其校正方法,该装置包括线阵电荷耦合器件、探测镜组、投影镜组、狭缝、照明镜组和光源,光源发出光线,依次通过照明镜组和狭缝后被分为若干束光线后通过投影镜组倾斜入射到工件上经工件反射后,通过探测镜组后入射到线阵电荷耦合器件形成光斑像。该方法包括根据光斑像获得子光斑间的距离;计算获得对应的工件位置高度;获得多个光斑像对应的工件位置高度,拟合获得工件的平面位置信息和倾斜角度θ;根据拟合曲线、倾斜角获得校正后的子光斑间距离,重新计算工件位置高度,并拟合工件位置平面,作为校正后的工件位置。该装置及方法提高了调焦调平传感器在测量不同形貌的工件时的准确度和精确性,具有良好的适应性。
申请公布号 CN103091992B 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201110340786.8 申请日期 2011.11.02
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 程琦;陈飞彪
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人 王光辉
主权项  一种使用工件位置校正装置的工件位置校正方法,所述工件位置校正装置位于投影物镜和工件之间,掩膜的图样通过所述投影物镜投影到所述工件的上表面,该校正装置包括线阵电荷耦合器件、探测镜组、投影镜组、狭缝、照明镜组和光源,所述光源发出光线,依次通过所述照明镜组和所述狭缝后被分为若干束光线,所述若干束光线通过所述投影镜组后倾斜入射到所述工件上,形成入射光线,所述入射光线经所述工件反射后,形成携带有掩膜图样信息的反射光线,所述反射光线通过所述探测镜组后,入射到所述线阵电荷耦合器件,形成光斑像;其特征在于,包括以下步骤:步骤1,根据所述光斑像,获得光斑像中子光斑间的距离D<sub>CCD</sub>;步骤2,根据所述子光斑间的距离D<sub>CCD</sub>,计算获得该光斑像对应的工件位置高度;步骤3,获得多个光斑像对应的工件位置高度,通过拟合获得所述工件的平面位置信息和倾斜角度θ;步骤4,判断是否需要倾斜校正;若需要,执行步骤5;若不需要,则输出所述工件的平面位置信息和倾斜角度θ;步骤5,根据子光斑间的距离D<sub>CCD</sub>与倾斜角θ之间的拟合曲线、倾斜角度θ获得校正后的子光斑间距离D<sub>CCD</sub>,返回步骤2,计算对应的工件位置高度,并拟合工件位置平面,作为校正后的工件位置。
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