发明名称 烤盘及其煎烤装置
摘要 本实用新型公开了一种烤盘及其煎烤装置,烤盘包括煎烤区和集油区,集油区环绕煎烤区设置,集油区的上表面低于煎烤区的上表面,集油区上形成有贯通其厚度的漏油孔。根据本实用新型的烤盘,将集油区的上表面设置成低于中心部分的煎烤区的上表面,且集油区上设置漏油孔,使得漏油孔位于烤盘上表面的最低处,烤盘上的多余油液可通过漏油孔完全排出,方便了烤盘的清洗。而且漏油孔位于烤盘的边缘处,漏油孔的设置对煎烤不产生干涉。
申请公布号 CN204133276U 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201420649122.9 申请日期 2014.10.31
申请人 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司;美的集团股份有限公司 发明人 邢凤雷;王志刚;杜明辉;尹志楠;万程
分类号 A47J37/06(2006.01)I;A47J37/10(2006.01)I 主分类号 A47J37/06(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 贾玉姣
主权项 一种烤盘,其特征在于,包括煎烤区和集油区,所述集油区环绕所述煎烤区设置,所述集油区的上表面低于所述煎烤区的上表面,所述集油区上形成有贯通其厚度的漏油孔。
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