Halbleitervorrichtung, mikro-elektromechanischen Resonator und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung

摘要

Eine Halbleitervorrichtung umfasst eine Silicium-Substratschicht mit einer Entkopplungsregion. Die Entkopplungsregion der Silicium-Substratschicht umfasst eine Anordnung von Lamellen, die lateral voneinander durch Hohlräume beabstandet sind. Jede Lamelle der Lamellenanordnung umfasst wenigstens 20 % Siliciumdioxid.