微影用光罩护膜元件及光罩防尘薄膜之制造方法

摘要

提供一种即使长时间使用如ArF准分子雷射光之类短波长雷射光也可以防止雾状缺陷析出于光罩上之微影用光罩护膜元件。此外，并提供展开于该微影用光罩护膜元件之光罩防尘薄膜之制造方法。微影用光罩护膜元件(1)，其系于呈框状之光罩护膜框架(4)之一侧之开口框展开能透过微影用雷射光之光罩防尘薄膜(2)，光罩护膜框架(4)之另一侧之开口框系可贴合于光罩(10)之微影用光罩护膜元件(1)，光罩防尘薄膜(2)具有以异物粒子(16)无法通过仅可通过气体分子(15)之孔径大小贯穿而成之通气孔(7)。

主权项

一种光罩防尘薄膜之制造方法，其系光罩防尘薄膜具有以异物粒子无法通过仅可通气之孔径大小贯穿而成之通气孔之光罩防尘薄膜之制造方法，其特征为：对表面具有大小正好嵌合于该通气孔之凸部之成膜用基板之中央部，滴下包含光罩防尘薄膜材料及挥发性溶剂之光罩防尘薄膜成份组成物的溶液，旋转该成膜用基板，藉离心力对该成膜用基板之表面全体以与该凸部高度同高之厚度涂布该溶液，蒸发该挥发性溶剂制成光罩防尘薄膜之后，从该成膜用基板剥离该光罩防尘薄膜。