发明名称 |
使用含有有机溶剂之显影剂之图案形成方法及用于该图案形成方法之洗涤液 |
摘要 |
一种图案形成方法包括:(i)由用于基于有机溶剂之显影的光阻组成物形成光阻膜之步骤,此光阻组成物含有(A)一种因酸之作用可增加极性而降低在含有机溶剂显影剂中溶解度的树脂,及(B)一种在以光似射线或辐射照射时可产生酸之化合物;(ii)曝光步骤;(iii)使用含有机溶剂显影剂之显影步骤;及(iv)使用洗涤液之清洗步骤,其中在步骤(iv)使用一种至少含有说明书中定义之溶剂S1或S2的洗涤液。 |
申请公布号 |
TWI470367 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
TW098140530 |
申请日期 |
2009.11.27 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 日本 |
发明人 |
上村聪;樽谷晋司 |
分类号 |
G03F7/20;G03F7/32;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
主权项 |
一种图案形成方法,其包含:(i)由有机溶剂系显影用光阻组成物形成光阻膜之步骤,此光阻组成物含有(A)一种因酸之作用可增加树脂(A)之极性而降低树脂(A)在含有机溶剂显影剂中溶解度的树脂,及(B)一种在以光似射线或辐射照射时可产生酸之化合物;(ii)曝光步骤;(iii)使用含有机溶剂显影剂之显影步骤;及(iv)使用洗涤液之清洗步骤,其中在步骤(iv)使用一种至少含以下溶剂S1或S2之洗涤液:溶剂S1:一种碳数为至少5且具有至少含分枝或环形结构之烷基链之醇,烷基链中之二级或三级碳原子系键结羟基;及溶剂S2:一种至少具有碳数为至少5之烷基、或碳数为至少5之环烷基的二烷基醚。 |
地址 |
日本 |