| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beaufschlagen von Substraten mit UV Strahlung in einem Anwendungsbereich, wobei die Vorrichtung umfasst: – eine Strahlungsquelle welche sowohl UV-Strahlung als auch sichtbares Licht und Infrarotstrahlung in einen Raumwinkel ausstrahlt. – einen strahlungsselektiven Umlenkspiegel welcher die UV Strahlung grösstenteils reflektiert und die VIS & IR Strahlung grösstenteils transmittiert dadurch gekennzeichnet, dass der Umlenkspiegel zumindest zwei flache Spiegelstreifen umfasst welche gegeneinander geneigt sind. |
