发明名称 一种掩膜板
摘要 本发明提供一种掩膜板。用于解决现有技术存在的由于掩膜板的过孔产生衍射效应导致无法制作4um以下的接触孔的问题。本发明的掩膜板中相位反转层可以将经过相位反转层的部分光线进行相位反转,此时,经过镂空区域的部分光线产生衍射效应时,与经过相位反转的光线抵消,消除了掩膜板的镂空区域的衍射效应,曝光形成的对应镂空区域的图形的尺寸更小,能够完成更小像素结构的制备;同时,光线强度的从镂空区域的中心向周边的降低也更快,曝光形成的对应镂空区域的图形的坡度角更大。
申请公布号 CN104267574A 申请公布日期 2015.01.07
申请号 CN201410446667.4 申请日期 2014.09.03
申请人 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 发明人 张家祥;郭建
分类号 G03F1/26(2012.01)I 主分类号 G03F1/26(2012.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 柴亮;张天舒
主权项 一种掩膜板,其特征在于,包括衬底和在所述衬底上依次设置的相位反转层、挡光层;其中,所述挡光层上设有镂空区域;所述相位反转层在所述挡光层上的投影至少部分位于所述镂空区域;所述相位反转层将从衬底侧入射的光线进行相位反转用于抵消所述光线经过镂空区域产生衍射的光线。
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