发明名称 |
微细构造的形成方法以及具有微细构造的基体 |
摘要 |
在本发明的微细构造的形成方法中,准备具有加工适合值的基板;对上述基板的内部,以接近于上述基板的上述加工适合值的照射强度,将具有皮秒级以下的脉冲时间宽度的激光在由上述激光的传播方向和与上述激光的偏振方向(电场方向)垂直的方向构成的平面内进行照射;在上述激光聚光的焦点以及离该焦点近的区域形成构造改性部;对上述构造改性部选择性地进行蚀刻处理,形成由微细孔构成的微细构造。 |
申请公布号 |
CN102741012B |
申请公布日期 |
2014.12.24 |
申请号 |
CN201180008346.0 |
申请日期 |
2011.01.31 |
申请人 |
株式会社藤仓;国立大学法人东京大学 |
发明人 |
额贺理;寒川诚二;杉山正和 |
分类号 |
B23K26/00(2014.01)I;B23K26/06(2014.01)I;B23K26/38(2014.01)I;B23K26/40(2014.01)I |
主分类号 |
B23K26/00(2014.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
李伟;阎文君 |
主权项 |
一种微细构造的形成方法,其特征在于,准备具有用于形成周期构造的激光脉冲能量的下限值亦即加工适合值的基板;对上述基板的内部,以接近于上述基板的上述加工适合值的照射强度,将具有皮秒级以下的脉冲时间宽度的激光在由上述激光的传播方向和相对于上述激光的偏振方向(电场方向)垂直的方向构成的平面内进行照射;在上述激光聚光的焦点以及离该焦点近的区域形成构造改性部;对上述构造改性部选择性地进行蚀刻处理,形成由配置在基板的内部的微细孔构成的微细构造。 |
地址 |
日本东京都 |