Verfahren und Vorrichtung zum Dotieren eines Wafers für eine Photovoltaikzelle

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Dotieren eines Wafers (100) für eine Photovoltaikzelle. Das Verfahren weist einen Schritt des Bereitstellens, einen Schritt des Ausrichtens und einen Schritt des Aufbringens auf. Im Schritt des Bereitstellens werden der Wafer (100) und eine Maske (300) bereitgestellt. Im Schritt des Ausrichtens wird die Maske (300) an dem Wafer (100) ausgerichtet. Die Maske (300) überdeckt eine Kante des Wafers (100) um einen vorbestimmten Abstand a. Im Schritt des Aufbringens wird ein Dotiermaterial (306) auf den Wafer (100) aufgebracht. Das Dotiermaterial wird (306) im Wesentlichen senkrecht zu dem Wafer (100) aufgebracht. Die Maske (300) schattet einen Randbereich (302) des Wafers (100) vor dem Dotiermaterial (306) ab.