发明名称 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
摘要 <p>본 발명은, 광 진행 방향으로 하류측에 배치되어 있는 광 혼합 시스템과 공동으로, 편광 소멸기(10, 500-900)에 입사하는 편광된 광의 효과적인 편광 소멸을 적어도 부분적으로 초래하는 편광 소멸기(10, 500-900) 및 광 진행 방향으로 상기 광 혼합 시스템의 상류측에 배치되어 있으며 다수의 마이크로렌즈(20a, 20b,...)들이 주기성을 갖고 배치되어 있는 마이크로렌즈 어레이(20)를 포함하는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 조명 시스템에 관한 것으로, 상기 편광 소멸기(10, 500-900)는, 광 진행 방향으로 상기 마이크로렌즈 어레이(20)의 하류측에 배치된 동공 평면(PP)에서 발생하는 잔여 편광 분포에 대한, 한편으로는 상기 편광 소멸기(10, 500-900)와 다른 한편으로는 마이크로렌즈 어레이(20)의 주기성과의 상호 작용에 의해 제공되는 기여가 5% 이하의 최대 편광도를 갖도록 한다.</p>
申请公布号 KR101474038(B1) 申请公布日期 2014.12.17
申请号 KR20097015962 申请日期 2007.10.01
申请人 发明人
分类号 G02B27/18;G02B27/28;G03F7/20 主分类号 G02B27/18
代理机构 代理人
主权项
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