发明名称 |
抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统;POLISHING PAD DRESSER, POLISHING PAD DRESSING DEVICE AND POLISHING SYSTEM |
摘要 |
本发明为一种抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统,所述修整器包括:研磨颗粒;基体,具有研磨面,研磨颗粒固结在研磨面上,研磨面包括:相连的边缘研磨面和研磨面,边缘研磨面环绕在研磨面的周围;研磨面为平面,且研磨面高于边缘研磨面。在对抛光垫进行修整时,由于研磨面的研磨面高于边缘研磨面,使得边缘研磨面上的研磨颗粒高于研磨面上的研磨颗粒,故当抛光垫修整器进入抛光垫的压入深度较小时,大部分边缘研磨面上的研磨颗粒不会进行研磨,因而减少了位于边缘位置的研磨颗粒的使用频率,降低了位于边缘位置的研磨颗粒的剥落可能;另外,还降低了位于边缘位置的研磨颗粒与抛光垫边缘发生碰撞的可能。 |
申请公布号 |
TW201446413 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW102131608 |
申请日期 |
2013.09.03 |
申请人 |
宁波江丰电子材料有限公司 |
发明人 |
姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽 |
分类号 |
B24B37/24(2012.01) |
主分类号 |
B24B37/24(2012.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>桂齐恒</name><name>林景郁</name> |
主权项 |
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地址 |
中国 |