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发明名称 systems and methods for UV lithography
摘要 <p>본 발명은 또한 상응하는 설계, 리소그래피 공정의 설정 방법, 리소그래피 마스크의 설계 시스템, 리소그래피 마스크, 및 리소그래피 마스크의 제조 방법과 관련된다.</p>
申请公布号 KR101472902(B1) 申请公布日期 2014.12.16
申请号 KR20080016368 申请日期 2008.02.22
申请人 发明人
分类号 G03F1/24;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F1/24
代理机构 代理人
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