曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法;EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

本发明，系根据在载台(WST1)上搭载之四个读头(601~604)中、包含互异之一个读头之三个读头所属之第1读头群与第2读头群中所含之读头对向于标尺板上对应区域之区域(A0)内，使用第1读头群所得之位置资讯驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得之位置资讯求出对应之第1及第2基准座标系(C1、C2)间之偏差(位置、旋转、定标之偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得之测量结果，据以修正第1及第2基准座标系(C1、C2)间之偏差、以及四个读头(601~604)之分别对向之标尺板上之区域彼此间之偏差伴随之测量误差。