用于投影曝光设备产生使用输出光束的ＥＵＶ光源;EUV LIGHT SOURCE FOR GENERATING A USED OUTPUT BEAM FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS

摘要

本发明说明提供一种为了投影微影的EUV光源(2)，该EUV光源(2)用于投影曝光设备产生EUV照明光所使用之输出光束(3)。光源(2)具有产生EUV原始输出光束(30)的EUV产生装置(2c)。该原始输出光束(30)具有圆形或椭圆形偏振(31)。光源(2)使用偏振设定装置(32)系为了设定使用输出光束(3)之偏振用途，将对于偏振之方向线性地偏振的效应(34)施加于原始输出光束(30)上。使用偏振设定装置(32)具有设置于原始输出光束(30)之光束路径中的至少一相位延迟构件(37)。前述至少一相位延迟构件在重叠以形成原始输出光束(30)之偏振的两个线性偏振波之间产生净相位移位，此净相位移位小于EUV照明光之使用输出光束(3)之半个波长λ，使其具有用于解析度最佳化照明的改良输出光束的EUV光源。