发明名称 |
一种溅射镀膜的靶材结构 |
摘要 |
本实用新型公开了一种溅射镀膜的靶材结构,包括一平板靶材,靶材底面设有若干排柱状磁铁,相邻排的磁铁极性互异,两侧的磁铁顶部表面设有朝向中间的斜面,中间的磁铁顶部两侧分别设有朝向两侧的斜面。其有益效果在于,通过调整磁铁表面的倾斜度,将其做成极靴,有效增多了平行于靶面的磁力线数量,从而提高了靶材利用率,而且一次投资少,不需要更改其他硬件设备及调整生产工艺。 |
申请公布号 |
CN203976900U |
申请公布日期 |
2014.12.03 |
申请号 |
CN201420351399.3 |
申请日期 |
2014.06.30 |
申请人 |
深圳新南亚技术开发有限公司 |
发明人 |
闫都伦;王克斌;吴细标;王旻杰;唐贵民 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种溅射镀膜的靶材结构,其特征在于,包括一平板靶材,靶材底面设有若干排柱状磁铁,相邻排的磁铁极性互异,两侧的磁铁顶部表面设有朝向中间的斜面,中间的磁铁顶部两侧分别设有朝向两侧的斜面。 |
地址 |
518029 广东省深圳市福田区八卦四路先科大院内光盘厂三层东侧 |