发明名称 处理装置及处理方法
摘要 电浆处理装置40具备:处理容器42,内部设有载置台用于载置上述被处理体;排气系64,具有进行处理容器42内之环境之排气的真空泵71、72及压力控制阀68;气体喷射机构98,设于处理容器42内,具有气体喷射孔102;及气体供给机构100,用于对上述气体喷射机构98供给处理气体。电浆处理装置40全体藉由控制机构114被控制。控制机构114,系控制排气系64及气体供给机构100,在开始上述特定之处理时,藉由排气系64进行上述处理容器42内之环境之排气之同时,仅在短时间供给较规定流量更大流量的处理气体,之后供给规定流量之处理气体。
申请公布号 TWI463561 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW096112107 申请日期 2007.04.04
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 野泽俊久;小谷光司;田中宏治
分类号 H01L21/3065;H01L21/205;C23C16/455 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种处理装置,系对被处理体使用特定之处理气体进行特定之处理者;其特征为:具备:处理容器,内部设有载置台用于载置上述被处理体;排气系,具有进行上述处理容器内之环境排气的真空泵及压力控制阀;气体喷射机构,具有气体喷射孔用于对上述处理容器内喷射复数种类之处理气体;气体供给机构,具有连接于上述复数种类之处理气体与上述气体喷射机构的气体流路,用于针对上述气体喷射机构进行上述复数种类之处理气体之切换、选择、流量控制之同时,进行供给;高速排气用旁通通路,系将上述气体流路和上述处理容器内予以连通而被设置之同时,在其中途设置有高速排气用开关阀;及控制机构,用于控制装置全体;上述控制机构,系在开始上述特定之处理时,在进行上述处理容器内之环境之排气之状态下,仅在特定短时间供给较上述特定处理时之规定流量更大流量的处理气体,之后供给上述规定流量之处理气体,依此而进行控制。
地址 日本