化学机械研磨垫调节器及其制造方法

摘要

本发明提供一种化学机械研磨垫调节器，其包括基板与钻石薄膜。所述基板包括多个凸出部，所述凸出部形成于所述基板之至少一个表面上，所述基板由陶瓷或硬金属合金制成。所述多个凸出部为透过雷射制程形成，以使多个凸出部的顶端和倾斜侧边上不具有角形棱边。钻石薄膜是以沉积方式形成，以覆盖所述多个凸出部，其中所述钻石薄膜包括粗糙研磨表面，且粗糙研磨表面上形成有具数微米大小的微凸出部。

主权项

一种化学机械研磨垫调节器的制造方法，所述方法包括以下步骤：(a)在由陶瓷或硬金属合金制成之基板的表面上形成多个凸出部；以及(b)沉积钻石薄膜，以覆盖所述多个凸出部，其中在步骤(a)中，透过雷射制程形成所述凸出部，以使所述凸出部的顶端和侧边上不具有角形棱边。