发明名称 |
积层膜的制造方法、积层膜以及使用该积层膜的半导体装置的制造方法;PRODUCTION METHOD OF LAMINATED FILM, LAMINATED FILM AND PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME |
摘要 |
本发明的目的是提供一种精度佳地预切割加工成特定形状的积层膜的制造方法。本发明是一种积层膜的制造方法,积层膜具有:长条状脱模膜,及设置于其上且沿着长度方向而相互邻接的多个岛状黏着膜,且制造方法包括:获得具有脱模膜与黏着膜的长条状积层体的步骤;将该积层体的黏着膜预切割而获得第一剥离部的步骤;将第一剥离部自脱模膜剥离的步骤;第一剥离部包含:岛状黏着膜A的脱模膜的宽度方向一端侧的周缘部、岛状黏着膜B的脱模膜的宽度方向另一端侧的周缘部、及将周缘部连结的连结部,且不含岛状黏着膜A的脱模膜的宽度方向另一端侧的周缘部与岛状黏着膜B的脱模膜的宽度方向一端侧的周缘部。 |
申请公布号 |
TW201444944 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
申请号 |
TW103111264 |
申请日期 |
2014.03.26 |
申请人 |
三井化学东赛璐股份有限公司 |
发明人 |
林下英司 |
分类号 |
C09J7/02(2006.01);B32B27/06(2006.01);B32B7/06(2006.01);B32B3/10(2006.01);H01L21/301(2006.01);H01L21/683(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
C09J7/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>叶璟宗</name><name>郑婷文</name><name>詹富闵</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |