发明名称 曝光方法与装置以及元件制造方法
摘要 一种能使光罩的图案小型化的曝光方法。本发明的曝光方法包括:照明工程,对形成着X方向上具有周期性的图案的光罩MA的图案区域A1~图案区域A4,周期性地脉冲照射照明光,藉由已穿过该图案的照明光来对板进行曝光;以及移动工程,于该照明光的脉冲照射的各周期,根据X方向上的该图案的图案周期,使板向着与X方向相对应的移动方向移动。
申请公布号 TWI463267 申请公布日期 2014.12.01
申请号 TW098101045 申请日期 2009.01.13
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 奈良圭
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种曝光方法,其特征在于包括:照明工程,对规定方向上具有周期性的图案周期性地脉冲照射曝光光,藉由已穿过上述图案的上述曝光光对物体进行曝光;以及移动工程,于上述曝光光的脉冲照射的各周期,根据上述规定方向上的上述图案的图案周期,使上述物体向着与上述规定方向相对应的移动方向移动。
地址 日本