发明名称 |
曝光方法与装置以及元件制造方法 |
摘要 |
一种能使光罩的图案小型化的曝光方法。本发明的曝光方法包括:照明工程,对形成着X方向上具有周期性的图案的光罩MA的图案区域A1~图案区域A4,周期性地脉冲照射照明光,藉由已穿过该图案的照明光来对板进行曝光;以及移动工程,于该照明光的脉冲照射的各周期,根据X方向上的该图案的图案周期,使板向着与X方向相对应的移动方向移动。 |
申请公布号 |
TWI463267 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
申请号 |
TW098101045 |
申请日期 |
2009.01.13 |
申请人 |
尼康股份有限公司 日本 |
发明人 |
奈良圭 |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种曝光方法,其特征在于包括:照明工程,对规定方向上具有周期性的图案周期性地脉冲照射曝光光,藉由已穿过上述图案的上述曝光光对物体进行曝光;以及移动工程,于上述曝光光的脉冲照射的各周期,根据上述规定方向上的上述图案的图案周期,使上述物体向着与上述规定方向相对应的移动方向移动。 |
地址 |
日本 |