| 发明名称 |
空白光罩及其制造方法;PHOTO MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
| 摘要 |
一种空白光罩，其系在透光性基板上具有由复数层构成之遮光膜的空白光罩，在其最表面所具有的层系由CrO、CrON、CrN、CrOC或CrOCN构成，前述遮光膜之表面部的原子数密度为9~14×10 22 atms/cm 3 。 |
| 申请公布号 |
TW201445245 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
| 申请号 |
TW103126127 |
申请日期 |
2009.03.31 |
| 申请人 |
ＨＯＹＡ股份有限公司 |
发明人 |
岩下浩之;宍戸博明;小凑淳志;桥本雅广 |
| 分类号 |
G03F1/32(2012.01);G03F1/82(2012.01) |
主分类号 |
G03F1/32(2012.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>何金涂</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
