| 发明名称 | 用于高温工艺的碳层 | ||
| 摘要 | 通过相应地选择处理参数，可以由等离子体增强化学气相沉积来沉积具有减少的氢含量的碳层。这样的碳层可以经受高温处理，而不显现过大的收缩。 | ||
| 申请公布号 | CN104141113A | 申请公布日期 | 2014.11.12 |
| 申请号 | CN201410150345.5 | 申请日期 | 2014.04.15 |
| 申请人 | 英飞凌科技股份有限公司 | 发明人 | G·德尼弗尔;M·卡恩;H·舍恩赫尔;D·莫勒;T·格里勒;J·希尔施勒;U·赫德尼格;R·门尼希;M·金勒 |
| 分类号 | C23C16/26(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 王茂华;张宁 |
| 主权项 | 一种方法，包括：使用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）在衬底上沉积具有氢含量的碳层，所述氢含量使得在低于700℃的温度对所述碳层进行任意热处理1小时或1小时以下时所述碳层的收缩低于10%；以及在至少400℃的温度执行所述碳层的处理。 | ||
| 地址 | 德国诺伊比贝尔格 | ||