| 发明名称 |
图案构造体之制造方法;METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN STRUCTURE |
| 摘要 |
本发明实施形态之图案构造体之制造方法中,使用具有笔34之涂布装置20,在基材10上形成剥离材12;接着藉由原子层沉积法在基材10及剥离材12上形成机能膜14。然后,藉由以剥离法除去剥离材12,而以机能膜14在基材10上形成图案14a。 |
| 申请公布号 |
TW201442066 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
| 申请号 |
TW103111376 |
申请日期 |
2014.03.27 |
| 申请人 |
住友商事股份有限公司 |
发明人 |
村上哲也;宫川隆;伊藤浩之;市川秀寿;泷川诚一 |
| 分类号 |
H01L21/027(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/3205(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>杨长峯</name><name>李国光</name><name>张仲谦</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
