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发明名称
微细空孔之内壁面处理方法
摘要
提供一种孔内壁面处理方法,即使被处理基体上设置之孔是窄而深的孔,仍能确实进行蚀刻或洗净。将设置有基体(100)且可减压之处理空间予以减压,其中该基体具有被施予处理液(106)之表面、及内部具有在该表面有开口(110)之微细空孔(104),而微细空孔(104)的深宽比(l/r)为5以上,或是深宽比未满5且V/S(V:微细空孔的容积、S:开口的面积)为3以上;接着于该被减压的处理空间导入处理液(106),以处理微细空孔(104)的内壁面。
申请公布号
TW201442097
申请公布日期
2014.11.01
申请号
TW102114105
申请日期
2013.04.18
申请人
国立大学法人东北大学
发明人
酒井健;吉田达郎;平塚亮辅;石川俊;大见忠弘;长谷部类;高野顺;菊山裕久;山本雅士
分类号
H01L21/306(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
<name>林志刚</name>
主权项
地址
日本
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