发明名称 PVD处理装置以及PVD处理方法
摘要 提供一种藉由基材之自转及公转,而能够在基材之外周面形成具有圆周方向均一性优异之膜厚的复合皮膜的PVD处理装置(1)及方法。PVD处理装置(1)系具备:真空腔室;及公转载台,用以在真空腔室内使复数个基材(W)绕公转轴(7)而公转;及自转载台(4),用以使各基材(W)在公转载台上绕与公转轴(7)呈平行之自转轴(8)而自转;及复数种靶材(5),设置于在公转载台之径向外侧且在圆周方向相互地分离的位置;以及载台旋转机构(6),在基材(W)通过从各靶材(5)之对包络各自转载台(4)之圆弧所拉出的二条切线(L1、L2)之间的期间使自转载台(4)以180°以上之角度进行自转。
申请公布号 TW201439348 申请公布日期 2014.10.16
申请号 TW103109645 申请日期 2014.03.14
申请人 神户制钢所股份有限公司 发明人 藤井博文
分类号 C23C14/22(2006.01) 主分类号 C23C14/22(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林志刚</name>
主权项
地址 日本