发明名称 |
保护阶梯槽的方法、电路板底材的镀金属方法和电路板 |
摘要 |
本发明提供了一种保护阶梯槽的方法、一种电路板底材的镀金属方法和一种电路板,保护阶梯槽的方法包括:对电路板底材进行表面处理;对阶梯槽进行选化湿膜涂布处理,并向阶梯槽内填充选化湿膜至预定位置;在电路板底材上的板面和选化湿膜上镀金属;对板面进行图形转移处理,制成电路并去除阶梯槽内选化湿膜上所镀的金属。通过本发明,选化湿膜能够有针对性的在特定区域形成保护层,加强与铜面的结合力,保证在后续制程中阶梯槽底面的图形及线路不受影响,其制作成本低,可有效减少后续去膜形成的废弃物,有利于对环境的保护,同时避免因阶梯槽的高度差影响压膜品质,减少不良。 |
申请公布号 |
CN104105344A |
申请公布日期 |
2014.10.15 |
申请号 |
CN201310127891.2 |
申请日期 |
2013.04.12 |
申请人 |
北大方正集团有限公司;珠海方正科技高密电子有限公司 |
发明人 |
车世民;李晋峰 |
分类号 |
H05K3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 |
代理人 |
梁朝玉;尚志峰 |
主权项 |
一种保护阶梯槽的方法,其特征在于,包括:步骤101,对所述电路板底材(1)进行表面处理;步骤102,对所述阶梯槽(2)进行选化湿膜涂布处理,并向所述阶梯槽(2)内填充所述选化湿膜至预定位置;步骤104,在所述电路板底材(1)上的板面(11)和所述选化湿膜上镀金属;步骤105,对所述板面(11)进行图形转移处理,制成电路并去除所述阶梯槽(2)内所述选化湿膜上所镀的金属。 |
地址 |
100871 北京市海淀区成府路298号方正大厦9层 |