吸取装置

摘要

一种吸取装置，其用于吸取承载有多个待处理元件的托盘。该吸取装置包括一个能够自转的真空吸取器、一个具有至少两个吸嘴的吸盘、以及至少一个离子风扇。该吸盘能够移动地连接于该真空吸取器上。该真空吸取器用于产生真空以使该吸嘴吸附该托盘。该至少一个离子风扇安装于该吸盘上且用于产生正负离子并吹向该多个待处理元件以减少静电。本发明的吸取装置在利用吸盘吸取承载有多个待处理元件的托盘，并利用真空吸取器自转使该托盘移动至目的地的同时，使用离子风扇将产生的正负离子吹向待处理元件以中和待处理元件上的静电，保证制作待处理元件下一步工序的顺利进行，从而保证了待处理元件的最终品质。

主权项

一种吸取装置，其用于吸取承载有多个待处理元件的托盘，该吸取装置包括一个能够自转的真空吸取器、一个具有至少两个吸嘴的吸盘、以及至少一个离子风扇，该吸盘能够移动地连接于该真空吸取器上，该真空吸取器用于产生真空以使该吸嘴吸附该托盘，该至少一个离子风扇安装于该吸盘上且用于产生正负离子并吹向该多个待处理元件以减少静电，该真空吸取器包括一个能够自转的支撑臂、一个悬臂、一个真空臂以及与该至少两个吸嘴对应的至少两根真空吸管，该悬臂的一端能够移动地连接在该支撑臂上，该真空臂固定在该悬臂的另一端，该至少两根真空吸管连接在该真空臂及该吸盘上的吸嘴，每根真空吸管的一端通过开设在该真空臂上的开孔而连接到该真空臂的内部，该至少两根真空吸管为硬质管，其能够承受该托盘及该吸盘的重量。